0416-3985101
中文|English
網站首頁 關于我們
資質榮譽
產品展示
成功案例
行業動態
在線留言
聯系我們
產品展示

硅化鉬,MoSi2 

發布時間:2016/05/13
硅化鉬,MoSi2



硅化鉬icp_副本.png

硅化鉬XRD_水印_600.jpg

微信圖片_20200718103837.png
1111111111111.png

分線界-相關數據.jpg

二硅化鉬(Molybdenumdisilicide,MoSi2)是一種鉬的硅化合物,

由于兩種原子的半徑相差不大,電負性比較接近,所以其具有近似于

金屬與陶瓷的性質。熔點高達2030℃,具有導電性,在高溫下表面能

形成二氧化硅鈍化層以阻止進一步氧化,其外觀為灰色金屬色澤,

源于其四方α-型晶體結構,也存在六角形但不穩定的β-改性晶體結構。

不溶于大部分酸,但可溶于硝酸和氫氟酸。

MoSi2是Mo-Si二元合金系中含硅量最高的一種中間相,是成分固定的

道爾頓型金屬間化合物。具有金屬與陶瓷的雙重特性,是一種性能優異

的高溫材料。很好的高溫抗氧化性,抗氧化溫度高達1600℃以上,與SiC相當;

有適中的密度(6.24g/cm3);較低的熱膨脹系數(8.1×10-6K-1);

良好的電熱傳導性;較高的脆韌轉變溫度(1000℃)以下有陶瓷般的硬脆性。

在1000℃以上呈金屬般的軟塑性。MoSi主要應用作發熱元件、集成電路、

高溫抗氧化涂層及高溫結構材料。

在MoSi2中鉬與硅之間以金屬鍵結合,硅和硅之間則以共價鍵連結,

二硅化鉬為灰色四方晶體。不溶于一般的礦物酸(包括王水),

但溶于硝酸和氫氟酸的混合酸中,具有良好的高溫抗氧化能力,可用作高溫

(<1700℃)氧化氣氛中工作的發熱元件。

在氧化氣氛中,高溫燃燒致密的石英玻璃(SiO2)的表面上形成保護膜層,

以防止二硅化鉬連續氧化。當加熱元件的溫度是高于1700℃,形成SiO2保護膜,

在熔點為1710℃下稠合,和SiO2融合成熔融滴。由于其表面延伸的動作,

因此失去其保護能力。在氧化劑作用下,當元素被連續地使用,

再次形成保護膜的形式。應當提示的是由于在低溫度的強氧化作用,

該元素不能長時間被用于400-700℃溫度環境下。

 二硅化鉬的應用于高溫抗氧化涂層材料、電加熱元件、集成電極薄膜、

結構材料、復合材料的增強劑、耐磨材料、結構陶瓷的連接材料等領域,

分布在以下幾個行業:

 1)能源化學工業:電加熱元件、原子反應堆裝置的高溫熱交換器、

氣體燃燒器、高溫熱電偶及其保護管、熔煉器皿坩堝(用于熔煉鈉、鋰、

鉛、鉍、錫等金屬)。

 2)微電子工業:MoSi2與其他一些難熔金屬硅化物Ti5Si3、WSi2、TaSi2

等是大規模集成電路柵極及互連線薄膜重要的候選材料。

 3)航空航天工業:作為高溫抗氧化涂層材料得到廣泛而深入的研究和應用。

特別是作為渦輪發動機構件,如葉片、葉輪、燃燒器、尾噴管及密封裝置的材料。

二硅化鉬作為結構材料用于航空、汽車燃氣渦輪機的高溫部件、氣體燃燒器、

噴管、高溫過濾器以及火花塞而成為金屬間化合物結構材料研究的最新熱點。

在這方面應用的最大障礙是其室溫脆性大和高溫強度低。因此二硅化鉬低

溫增韌和高溫補強是其作為結構材料實用化的關鍵技術。在這方面的研究表明,

合金化和復合化是改善二硅化鉬室溫韌性和高溫強度的有效手段。一般用于

二硅化鉬合金化的組分僅是那些和二硅化鉬具有相同或類似晶體結WSi2、

NbSi2、CoSi2、Mo5Si3和Ti5Si3等少數幾種硅化物,其中最理想的是WSi2。

但用WSi2合金化會使二硅化鉬比重方面的優勢明顯喪失,應用受到一定的限制。

實踐證明,二硅化鉬幾乎與所有的陶瓷增強劑(如SiC、TiC、ZrO2、Al2O3、

TiB2等)都有良好的化學穩定性和容性。因此,復合化即制備二硅化鉬基

復合材料是改善二硅化鉬力學性能最有效的途徑。


亚洲 图片 另类 综合 小说

    <pre id="wxp7k"></pre>

      <code id="wxp7k"></code><th id="wxp7k"><video id="wxp7k"></video></th>

        <object id="wxp7k"></object>

        <th id="wxp7k"><option id="wxp7k"></option></th><object id="wxp7k"></object>